河南鉬管靶廠(chǎng)家

應(yīng)用原理：濺射是一種先進(jìn)的薄膜材料制備技術(shù)，它利用離子源產(chǎn)生的離子，在真空中加速聚集成高速離子流，轟擊固體表面，離子和固體表面的原子發(fā)生動(dòng)能交換，使固體表面的原子離開(kāi)靶材并沉積在基材表面，從而形成納米或微米薄膜。上述用濺射法沉積薄膜的被轟擊的固體，稱(chēng)為濺射靶材。

應(yīng)用領(lǐng)域：純鉬或鉬合金可以在各類(lèi)基材上形成薄膜。因此廣泛應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè)。如目前廣泛應(yīng)用的TFT-LCD(薄膜半導(dǎo)體管-液晶顯示器)、等離子顯示屏、無(wú)機(jī)發(fā)光二極管顯示器、場(chǎng)發(fā)射顯示器、薄膜太陽(yáng)能光伏電池、傳感器、半導(dǎo)體裝置和具有可調(diào)諧功函數(shù)CMOS（互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體）的場(chǎng)效應(yīng)晶體管柵極等。