DHHF-1熱絲等離子體薄膜沉積實(shí)驗(yàn)裝置 主要技術(shù)參數(shù)： ◆真空腔室尺寸：Φ350×H500mm； ◆真空腔室結(jié)構(gòu)：立式前開門結(jié)構(gòu)，后置抽氣系統(tǒng)，雙層水冷； ◆真空系統(tǒng)：擴(kuò)散泵+機(jī)械泵+維持泵； ◆極限真空：5×10-4Pa； ◆真空測量方式：數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)、薄膜壓力計(jì)； ◆基片臺尺寸：Φ100mm； ◆基片臺升降：80～100mm； ◆基片臺轉(zhuǎn)速：0～10轉(zhuǎn)/分（可調(diào)）； ◆熱絲溫度：2000℃～2500℃； ◆襯底溫度：600℃～1000℃； ◆制膜種類：金剛石厚膜、類金剛石膜、氮化硅和碳化硅膜等； ◆工作電源：AC380 V，50Hz；整機(jī)功率5KW。電源型式：熱絲電源； ◆真空控制方式：手動按鈕控制； ◆工藝氣體控制方式：4路工藝氣體流量控制及顯示系統(tǒng)； ◆報(bào)警及保護(hù)系統(tǒng)：對泵、電極等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進(jìn)行報(bào)警并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)措施。